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晶圓(硅片)為什么越來越大?

發(fā)布時(shí)間:2024-10-11作者來源:薩科微瀏覽:1448

在硅基集成電路生產(chǎn)過程中,硅片(wafer)是關(guān)鍵材料之一。硅片的直徑和大小在整個(gè)生產(chǎn)工藝中起著至關(guān)重要的作用。硅片的尺寸不僅決定了可以生產(chǎn)的芯片數(shù)量,也對(duì)成本、產(chǎn)能和質(zhì)量有直接影響。


一、硅片尺寸的歷史發(fā)展

集成電路生產(chǎn)的早期,使用的硅片直徑較小。1960年代中期,硅片的直徑通常是25毫米(1英寸)。隨著技術(shù)進(jìn)步和對(duì)更高效生產(chǎn)的需求增加,硅片的尺寸不斷增大。現(xiàn)代半導(dǎo)體制造中,通常使用150毫米(6英寸)、200毫米(8英寸)以及300毫米(12英寸)的硅片。


圖片

圖:硅片的參數(shù)


這種尺寸的變化帶來了顯著的優(yōu)勢(shì)。以300毫米的硅片為例,其表面積是50年前1英寸硅片表面積的140多倍。這種面積的增加使得生產(chǎn)效率和成本效益都有了顯著提升。


二、硅片尺寸對(duì)產(chǎn)量和成本的影響

1. 產(chǎn)量提升

較大的硅片允許在同一片硅片上制造更多的芯片。假設(shè)芯片的結(jié)構(gòu)尺寸(即芯片的設(shè)計(jì)和所需的物理空間)相同,那么在300毫米的硅片上可以比200毫米的硅片上多制造超過兩倍的芯片。這意味著更大的硅片可以顯著提升產(chǎn)量。

2. 成本降低

硅片面積增大后,產(chǎn)量增加,而制造工藝的一些基本步驟(例如光刻和蝕刻)不隨硅片尺寸的變化而變化。這樣就可以在不增加工藝步驟的情況下提高生產(chǎn)效率。此外,更大的硅片也使得制造成本能夠進(jìn)一步分?jǐn)?,從而每個(gè)芯片的成本也會(huì)降低。


三、硅片邊緣效應(yīng)的改善

當(dāng)硅片直徑增加時(shí),硅片的邊緣曲率變小,這對(duì)于減少邊緣損耗非常重要。因?yàn)樾酒ǔJ蔷匦蔚?,所以在硅片邊緣由于曲率的影響,可能無法容納完整的芯片。在較小的硅片中,這種邊緣損耗較大,因?yàn)楣杵瘦^大。但是在300毫米的硅片中,這種曲率相對(duì)較小,因而可以[敏感詞]限度地減少邊緣的損耗。


四、硅片尺寸的選擇與工藝設(shè)備的匹配

硅片的尺寸影響著設(shè)備的選擇和生產(chǎn)線的設(shè)計(jì)。隨著硅片直徑的增加,所需的設(shè)備也需隨之調(diào)整。例如,用于處理300毫米硅片的設(shè)備通常需要更多的空間和不同的技術(shù)支持,并且在成本上也較高。但是,這種投資可以通過提高產(chǎn)量和降低單片芯片成本來彌補(bǔ)。

圖片

此外,300毫米硅片的制造過程相比200毫米硅片會(huì)更加復(fù)雜,涉及更高精度的機(jī)械手臂和復(fù)雜的搬運(yùn)系統(tǒng),以確保硅片在整個(gè)生產(chǎn)過程中不受損。


五、硅片尺寸的未來趨勢(shì)

雖然目前300毫米的硅片已經(jīng)在高端制造中廣泛應(yīng)用,但行業(yè)對(duì)更大尺寸硅片的探索仍在繼續(xù)。450毫米硅片的研發(fā)工作已經(jīng)開始,并有望在未來實(shí)現(xiàn)商用。硅片尺寸的增加直接提高了生產(chǎn)效率,降低了成本,并且減少了邊緣損耗,這些都使得半導(dǎo)體制造變得更加經(jīng)濟(jì)和高效。


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